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論文

Precise chemical state analyses of ultrathin hafnium films deposited on clean Si(111)-7$$times$$7 surface using high-resolution core-level photoelectron spectroscopy

垣内 拓大*; 的場 友希*; 小山 大輔*; 山本 優貴*; 加藤 大暉*; 吉越 章隆

Surface Science, 701, p.121691_1 - 121691_8, 2020/11

https://doi.org/10.1016/j.susc.2020.121691
 被引用回数：1 パーセンタイル：5.82(Chemistry, Physical)

放射光XPSを用いて清浄Si(111)-7$$times$$7表面上に堆積したHf超薄膜の界面および表面の化学状態を調べた。極薄Hf層の成長は、相図のてこ則に従う。Hf/Si(111)には、3つの成分(金属Hf層, Hfモノシリサイド(HfSi)およびSiリッチHfシリサイド)があった。極薄Hf層は、1073Kのアニーリング後、HfSi$$_{2}$$アイランドに変化し、長方形形状のアイランドの長軸がSi(111)DASモデルのコーナーホール方向になることが分かった。

論文

H$$_{2}$$ production from methane decomposition by fullerene at low temperature

徳永 智春*; 久野 孝平*; 河上 匠*; 山本 剛久*; 吉越 章隆

International Journal of Hydrogen Energy, 45(28), p.14347 - 14353, 2020/05

https://doi.org/10.1016/j.ijhydene.2020.03.178
 被引用回数：2 パーセンタイル：6.57(Chemistry, Physical)

グラファイトとカーボンブラックによるCH$$_{4}$$からのH$$_{2}$$生成触媒メカニズムを明らかにするために、ガスクロマトグラフィー,放射光その場加熱X線光子分光法(SR-XPS)とTEMによって6員環に加え5員および7員環からなるフラーレンの触媒挙動を調べた。XPSおよびTEM分析から、sp$$^{2}$$結合からなる複数のリング構造が、CH$$_{4}$$分解の400$$^{circ}$$以下の低温触媒作用を起こすことが推察された。

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